Poudre de polissage à l’oxyde de cérium 0,7-1,1 µm
DESCRIPTION:
La poudre de polissage à l’oxyde de cérium (0,7-1,1 µm) est un abrasif submicronique de haute pureté à base d’oxyde de cérium (CeO₂, également appelé cérine). Elle présente un mécanisme de polissage chimico-mécanique unique. Cette poudre est largement utilisée pour le polissage de précision des plaquettes de semi-conducteurs, des composants optiques et des substrats électroniques. Elle convient à la préparation de suspensions de polissage.
Propriétés de la poudre de polissage à l’oxyde de cérium 0,7-1,1 µm :
| N° CAS | 1306-38-3/1312-81-8 |
| Formule | Oxyde de cérium (CeO2) / Oxyde de lanthane (La2O3) |
| Apparence | Poudre blanche |
| NON. | 215-150-4/215-200-5 |
| Densité réelle | 6,5-7 g/cm3 |
| Point de fusion | 2400 degrés Celsius |
| point d’ébullition | 3500 degrés Celsius |
ANALYSE CHIMIQUE TYPIQUE [%] :
| Article | Valeur de garantie | Valeur typique | |
| LANGUE | ≥94 | 94,42 | |
| Impuretés de terres rares/REO | La2O3 | 32-36 | 34,94 |
| CeO2 | 64-68 | 64,57 | |
| Pr6O11 | ≤0,2 | 0,007 | |
| Nd2O3 | ≤0,2 | 0,002 | |
| Impuretés autres que les terres rares | Fe2O3 | ≤0,04 | 0,033 |
| Al2O3 | ≤0,5 | 0,289 | |
| Haut | ≤1,5 | 0,04 | |
| MgO | ≤0,5 | 0,104 | |
| SiO2 | ≤0,1 | 0,019 | |
APPLICATIONS :
Utilisé pour le meulage et le polissage de haute précision du verre optique, du verre pour substrats de circuits intégrés, du verre pour substrats de galvanoplastie, des lentilles optiques de haute précision, des objectifs d’appareil photo, du verre trempé pour l’aéronautique, de divers verres d’affichage et d’autres produits de plus de 10 spécifications et modèles. Il peut également être
utilisé dans le perçage à l’eau, le perçage à chaud, la fabrication de bijoux en verre, etc.
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